電鍍金生產(chǎn)線輔助設(shè)備：

1.電鍍金電源：

電鍍電源是電鍍過程中重要的輔助設(shè)備，是將商業(yè)交流電轉(zhuǎn)換成各種電壓、頻率和波形的直流電源設(shè)備。

2電鍍工藝液體過濾裝置：

過濾裝置是與電鍍工藝產(chǎn)品質(zhì)量相關(guān)的主要設(shè)備之一。

鍍鋅廠家：過濾器設(shè)備制造有幾個(gè)主題

(1)。過濾器核心質(zhì)量不好，過濾器不干凈，需要反復(fù)過濾多次，浪費(fèi)時(shí)間和資源

(2)。過濾器的過濾器易碎，不能滿足顧客的需求，質(zhì)量不好，需要經(jīng)常更換過濾器。

(3)。過濾器壞了，不能亂扔。是危險(xiǎn)物品。應(yīng)該交給保管?？梢栽黾淤Y源成本。

3超聲波設(shè)備的使用

超聲波條件下，涂層的優(yōu)點(diǎn)是顆粒小、致密、硬度高、耐蝕性好、內(nèi)應(yīng)力小，超聲波的空化效果可以大大加快脫油防銹處理，減少生產(chǎn)加工時(shí)間，提高脫油防銹處理的實(shí)際效果。

電鍍金基礎(chǔ)知識(shí)：影響鍍層燒焦的因素主鹽濃度過低

對(duì)于氯化甲鍍鋅、光亮酸銅、鍍鎳等簡(jiǎn)單鹽電鍍，當(dāng)主鹽濃度過低時(shí)，鍍層易燒焦。原因是：（1）主鹽濃度過低時(shí)，陰級(jí)界面液層中主鹽濃度本身很低，電流稍大，放電后即缺乏金屬離子，H+易乘機(jī)放電；（2）鍍液本體的主鹽濃度低，擴(kuò)散與電遷移速度都下降，陰級(jí)界面液層中金屬離子的補(bǔ)充速度也低，濃差級(jí)化過大。

配合物電鍍則較復(fù)雜。若單獨(dú)提高主鹽濃度，則配合比變小，陰級(jí)電化學(xué)級(jí)化不足。在保持配合比不變的前提下，要提高主鹽濃度，配位劑濃度應(yīng)按比例提高，即鍍液應(yīng)濃，但這受多種因素制約，鍍液濃度不可隨意提高。